기존 방식에서의 방해 요소를 역이용하는 3차원 나노구조체 제작공정 기술이 개발됐다.
한국표준과학연구원(KRISS)은 나노바이오측정센터 유은아 박사 연구팀이 `포토리소그래피` 공정 기반에서 빛의 회절과 간섭 효과를 이용해 구조를 제어하는 3차원 나노구조체 어레이 제작기술을 개발했다고 8일 밝혔다.
사진 인화 기술을 응용한 포토리소그래피는 감광물질(포토레지스트) 위에 원하는 패턴이 있는 마스크를 놓고 자외선을 쏴 빛을 받은 영역에 따라 패턴을 만드는 방식이다.
반도체와 집적회로 등 미세한 패턴을 만드는 데 사용되는데, 그동안 빛의 회절과 간섭 때문에 정확히 원하는 구조를 만들기 어려웠다.
기존에는 이러한 단점을 보완하고자 고가의 장비를 활용해 빛의 파동성을 낮추는 등 복잡한 제작 과정을 거쳤다.
유은아 박사 연구팀은 기존의 방해 요소였던 빛의 회절과 간섭을 역으로 이용해 3차원 나노구조체를 제작하는 방법과 형성원리를 규명하고 설계 규칙을 제시했다.
빛과 물질 간 상호작용을 토대로 빠르게 큰 면적의 3차원 나노구조체를 만들 수 있다고 유 박사 연구팀은 전했다.
유은아 박사는 “반도체, 광학, 의료소자 등 다양한 산업 분야에 적용할 수 있을 것”이라며 “정교한 나노구조체 어레이를 전보다 쉽게 제작할 수 있을 것으로 기대한다”고 말했다.
고려대 물리학과 최종호 박사와 박규환 교수가 참여한 이번 연구는 미래창조과학부 글로벌 프론티어 사업과 표준연 기관 고유사업 지원으로 수행했다.
결과는 재료 분야 국제학술지 `어드밴스드 펑셔널 머티리얼즈(Advanced Functional Materials)` 8월 2일자 표지 논문으로 실렸다.
대전=김순기기자 soonkkim@etnews.com