특허청은 16일 중국·일본 특허청과 공동으로 서울 한국과학기술회관 SC컨벤션센터에서 '한·중·일 디자인 포럼'을 개최한다고 10일 밝혔다.
올해로 8회째인 '한·중·일 디자인 포럼'은 3국 특허청 전문가가 디자인 보호 현안을 짚어보고 해결방안을 논의하는 자리다. 매년 3국이 돌아가며 개최한다.
올해는 '캐릭터 디자인의 보호'를 주제로 3국 캐릭터 업계의 최근 실태를 진단하고 대안을 모색한다. 캐릭터의 법적 보호를 위해 디자이너 등이 숙지해야 할 지식재산권 정보를 소개한다.
주제발표는 △지재권으로 캐릭터 디자인 보호 △중국의 만화 이미지 디자인의 보호 및 일본 캐릭터의 법적 보호 △기업의 캐릭터 지식재산(IP)침해 및 대응 사례 △중국 캐릭터 산업과 지재권 유통 및 이용 실태 △일본 애니메이션의 해외 진출을 주요 내용으로 진행한다.
최규완 특허청 상표디자인심사국장은 “이번 포럼이 캐릭터 디자인의 권리 보호에 대한 인식을 널리 확산시키고 건전한 창착 활동 조성에 도움이 되기를 바란다”고 말했다.
대전=신선미기자 smshin@etnews.com