한국전기연구원(KERI·원장 최규하)이 임플란트 표면을 나노미터(nm)급으로 거칠게 만드는 나노 표면처리 기술을 개발했다. 나노급으로 표면 처리된 임플란트는 생체적합도가 높아 시술 후 환자의 치유기간을 단축할 수 있다.
한국전기연구원은 김두헌 KERI 나노융합기술연구센터 선임연구원이 최근 임플란트용 '전기화학 나노 표면처리 기술'을 개발, 덴티스에 이전했다고 26일 밝혔다.
티타늄이나 티타늄합금 소재로 된 임플란트를 인체에 삽입하려면 표면을 거칠게 만들어야 한다. 인체에 빠르게 안착시켜 치료 시간을 단축하기 위한 목적이다.
표면을 거칠게 만들기 위해 기존에는 주로 샌드 블라스팅 과정 후 황산이나 염산 같은 강산을 이용한 에칭공정법을 사용했다.
이 방법은 표면에 산화막이 생겨 제품이 약해지거나 공정상 불순물이 발생하고, 표면의 거친 정도도 마이크로미터 이상으로만 가능했다.
김 연구원은 전기화학 나노 에칭 처리 기술을 개발해 이를 해결했다. 이 기술은 임플란트 표면을 나노급 패턴으로 거칠게 만들 수 있어 생체 적합도가 높다. 기존 방법과 달리 무독성·친환경 표면처리 기술이다.
KERI는 이 기술을 덴티스에 이전했고, 현재 이 기술을 적용해 만든 임플란트의 검증, 임상, 인허가 등을 진행하고 있다. 오는 2020년 양산 제품을 시중에 선보일 계획이다.
김두헌 연구원은 “고가의 장비가 필요 없고, 전체 가공비도 기존 대비 대폭 낮출 수 있는 대량 생산에 적합한 기술”이라면서 “이 기술로 임플란트를 제작하면 인체 내 기계적 고정력을 높여주고 치료 기간도 단축할 수 있어 환자의 만족도가 크게 높아질 것”이라 말했다.
한편, 식품의약품안전처에 따르면 지난해 치과용 임플란트 시장은 인구 고령화 및 건강보험적용 확대와 맞물려 의료기기 품목 가운데 가장 큰 8889억원 규모에 달했다. 매년 약 8.6%의 성장을 보여 오는 2020년에는 6조7000억원에 이를 것으로 전망된다.
창원=임동식기자 dslim@etnews.com
