국내 중소기업이 메모리반도체용 핵심소재 국산화에 성공했다. 수입품 대비 소재 물성이 우수해 수입 대체 효과가 클 것으로 기대된다.
과기정통부는 DCT 머티리얼과 나노종합기술원이 공동연구를 통해 '고(高)종횡비 구조 메모리반도체용 스핀코팅 하드마스크 소재' 기술자립에 성공했다고 12일 밝혔다.
하드마스크는 반도체 미세회로를 새기는 포토마스크 보조재료다. 식각공정을 통해 패턴을 형성시킬 수 있게 만드는 필수 소재다.
최근 고집적화를 위해 종횡비가 높은 반도체 제조 비중이 높아지고 있다. 종횡비가 높을수록 식각공정 과정에서 패턴이 무너지기 쉬운데 이를 하드마스크가 이 문제를 해결한다.
DCT 머티리얼은 나노종합기술원 팹시설을 활용, 공동으로 기술개발을 추진했다. 최종 수요 대기업에 납품하기 위한 내열성, 평탄화율 등 요구기준을 충족하는 제품을 개발했다. 고평탄화를 구현, 반도체 공정 단순화에 유리하다.
하드마스크는 국산 자립이 시급한 제품으로 분류된다. 글로벌 반도체 기업이 고집적·초미세화 공정을 적용한 반도체 소자를 생산하면서 하드마스크 수요가 증가하고 있다.
DCT 머티리얼 관계자는 “나노종합기술원과 협력해 세계최고 수준을 뛰어넘는 제품을 개발했다”면서 “중소기업 지원 테스트베드가 확충된다면 반도체 소재의 기술자립을 더욱 앞당길 수 있을 것”으로 기대했다.
고서곤 과기정통부 기초원천연구정책관은 “반도체 핵심 소재·부품·장비 기술자립을 지원하기 위해 나노종합기술원과 같은 나노인프라 기관을 적극적으로 활용할 계획”이라면서 “지난해 부터 추진중인 12인치 반도체 테스트베드가 완공되면 산업경쟁력 제고에 크게 기여하게 될 것”으로 내다봤다.
최호기자 snoop@etnews.com
