국내 기업이 대표적 반도체 소재 기술인 연마제(CMP 슬러리) 시장 주도권을 잡기 위해 빠르게 추격하고 있다.
국내 시장 점유율이 높은 글로벌 선도 기업이 특허분쟁 등 사유로 특허출원에 주춤한 사이, 국내기업 CMP 슬러리 국산화 비중이 확대되고 있다.
특허청(청장 김용래)은 CMP 슬러리 관련 특허출원이 2009년 87건에서 2018년 131건으로 연평균 4.7% 증가했다고 27일 밝혔다.
이 중 내국인 출원 증가율은 6.1%로 외국인(3.6%)을 상회했고 내국인 출원 점유율도 2009년 39.1%에서 2018년 44.3%로 5.2% 증가했다.
미국과 일본 등 글로벌 선도 기업들 강세 속에서 국산화 비중 확대를 위해 국내기업 특허출원을 꾸준히 늘리며 노력한 결과다.
최근 10년간(2009년~2018년) CMP 슬러리 분야 다출원인 중 1위는 케이씨텍(164건, 16.3%)이 차지했고 글로벌 기업 후지미(124건, 12.4%), 히타치(85건, 8.5%), 캐보트(83건, 8.3%)가 뒤를 이었다.
삼성(70건, 7.0%), 솔브레인(53건, 5.3%), LG(25건, 2.5%) 등은 10위권 안에 포함됐다.
특히 국내 중견기업인 케이씨텍과 솔브레인이 활발한 특허출원으로 CMP 슬러리 분야에서 내국인 특허출원 증가를 견인하고 있는 점이 눈여겨볼 만하다.
세부 기술별로는 실리콘 절연막 슬러리(365건, 36.4%)가 가장 많았고 구리, 텅스텐 등 금속막 슬러리(290건, 28.9%), 연마입자(202건, 20.1%), 유기막, 상변화막 등 특수막 슬러리(75건, 7.5%) 등 순이다.
출원인 유형별로는 외국기업 61.2%(614건), 국내기업 37.5%(377건)로 국내외 기업이 특허출원을 주도했고 나머지 국내 대학 1.0%(10건), 국내 연구소 0.2%(2건), 외국대학 0.1%(1건) 등은 저조했다.
유밀 특허청 유기화학심사과 심사관은 “우리 기업의 적극적인 특허출원으로 CMP 슬러리 국산화 확대가 기대된다”며 “반도체 미세화, 고집적화는 계속 진행되고 있어 이러한 요구에 부합하는 CMP 슬러리에 대한 기술개발은 여전히 필요할 것”이라고 말했다.
대전=양승민기자 sm104y@etnews.com
