상표·디자인분야 선진 5개청 韓 모였다…가상공간 디자인 보호 등 협력과제 논의

상표·디자인분야 선진 5개청 韓 모였다…가상공간 디자인 보호 등 협력과제 논의

한국과 미국, 일본, 중국, 유럽 등 상표·디자인분야 선진 5개청(TM5·ID5)이 모여 상표침해 인식제고 방안과 가상공간 상 디자인 보호 등 협력과제를 논의한다.

특허청은 11일부터 15일까지 송도 오크우드 프리미어(인천)에서 '2023 TM5 및 ID5 연례회의'를 개최한다고 밝혔다.

이번 회의에서 각 관청과 세계지식재산기구(WIPO) 관계자 등이 참여해 올해 추진한 협력과제 경과를 정리하고 내년도 추진과제를 채택할 예정이다.

먼저 TM5 연례회의에서 상표침해에 대한 인식제고 방안, 악의적 상표출원 방지방안 등 16개 협력 과제에 대해 논의한다. 또 메타버스와 같은 가상공간에서 상표 사용 확대, 국경을 넘나드는 상표권 침해 등 새로운 문제가 대두됨에 따라 선제적 대응을 위한 TM5 공동선언문을 발표할 예정이다.

ID5 연례회의는 메타버스 상 디자인 보호와 디자인 도면요건에 관한 사용자 가이드 제작을 비롯한 12개 협력과제를 다룬다. 특히 메타버스 상 디자인 보호 과제는 각국 산업계 의견까지 반영해 연말 마무리할 계획이다.

신규 과제로 한국이 미국과 공동으로 '헤이그 국제디자인 심사결과 비교'를 제안하며, 여성 디자인 제도 참여 활성화를 위한 노력을 담은 ID5 공동선언문도 논의한다.

특허청은 회의가 열리는 기간을 '상표·디자인 주간'으로 지정해 상표·디자인 포럼 및 인천지역 기업 간담회, TM5·ID5 사용자세션, 상표 빅데이터 콘퍼런스 등 부대행사도 진행한다.

이인실 특허청장은 TM5 연례회의에 참석해 각 관청 대표단을 격려하고 깊이 있는 논의를 당부할 예정이다. 또 상표·디자인 포럼과 인천지역 기업 간담회에 참석해 학계·산업계 강연, 기업 지재권 애로사항을 청취한다.

이인실 특허청장은 “최근 신기술 등장과 시장 글로벌화 등으로 지재권 환경 변화에 대응하기 위해 공동 노력이 더욱 중요해졌다”며 “상표·디자인 분야 신 규범 형성과 출원인 권리 보호 강화를 목표로 선진 5개청 간 협력을 이끌어 나가겠다”고 말했다.

양승민 기자 sm104y@etnews.com