우리 기업이 생산한 반도체 등의 초미세공정 핵심용제가 삼성전자 공정에 쓰이게 됐다.
9일 재원산업(대표 심재원)에 따르면 삼성전자 반도체 사업을 맡는 디바이스솔루션(DS)부문은 재원산업이 개발한 초고순도, 친환경 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세트산(PGMEA) '반도체 PR 신너(Thinner)' 원재료 적용 최종 품질 승인을 마쳤다.
이번에 국내 업체 최초로 삼성전자 품질승인(Qual)을 통과한 재원산업은 전남 여수에 본사를 둔 중견기업으로, 2018년 초고순도 PGMEA 개발에 착수해 2022년 국내 업체 최초로 99.999%(5N) 초고순도 PGMEA 개발을 마쳤다.
현재 연간 3만톤 이상 초고순도 PGMEA 대량 생산시설을 갖춘 유일한 국내 업체로 평가받는다.
PGMEA는 노광공정 반도체용 신너다. 웨이퍼에 사용되는 감광물질(포토레지스트) 도포량을 감소시키거나, 도포된 것을 씻어내는 역할을 한다.
재원산업에 따르면 이들의 PGMEA는 기존 PGMEA 문제점이었던 생체독성 성분 '베타 이성질체' 함유량을 획기적으로 낮춰 사실상 인체에 무해하다.
메탈 불순물 1ppb이하 그리고 산가(Acidity) 10ppm을 동시 구현한 것도 이번 성과에 영향을 끼쳤다는 분석이다.
또 고체 촉매를 사용한 연속 제조 공정을 국내 최초로 도입해 생산량·효율을 획기적으로 개선한 것도 강점이다. 시뮬레이션 프로그램을 통한 공정모사 결과, PGMEA 에스터 구조가 분해되지 않는 공정 조건을 융합한 최적 조건으로 가격 경쟁력 또한 확보했다.
재원산업의 연간 3만톤 PGMEA 생산능력은 연간 약 1조원 규모 수입 대체, 수출 효과를 낼 것으로 기대된다. 재원산업은 이후 산가(Acidity) 프리(Free) 제품 개발에도 집중할 계획이다.
심재원 대표는 “이번 승인으로 전량 수입 의존적이던 반도체·디스플레이 핵심용제 공급 불안을 해소하고, 산업 지형을 변화시킬 수 있을 것으로 이미 해외 여러 고객사들에 베타 이성질체 프리 초고순도 PGMEA 공급 요청을 받고 있다”며 “포토레지스트 소재뿐만 아니라 반사방지막(BARC), 스핀온 하드마스크(SOH) 등에도 활용 가능성이 큰 초고순도 PGMEA 품질 경쟁력을 더욱 강화해 시장을 선도하겠다”고 밝혔다.
김영준 기자 kyj85@etnews.com
