한국나노기술원, 시스템반도체 연구 장비 구축…차세대 패키지 기술 지원

과기부로부터 4년간 총 449억원 지원…시스템반도체 경쟁력 강화
시스템반도체용 8인치 PDK·MPW 제작 체계와 36대 연구 장비 구축

한국나노기술원 전경.
한국나노기술원 전경.

한국나노기술원(원장 서광석)이 시스템반도체 관련 연구장비 구축을 통해 차세대 패키지 기술 지원에 나선다.

27일 기술원에 따르면 과학기술정보통신부로부터 총 449억원(사업기간 2019년 9월~2023년 6월)을 지원받아 시스템반도체 경쟁력 강화를 위한 8인치 공정설계키트(PDK) 구축 및 다중 프로젝트 웨이퍼(MPW) 제작 지원 체계와 총 36대의 관련 연구 장비를 구축했다.

주요 장비로는 △극자외선 노광장비(KrF Stepper·반도체 패턴 형성 장비) △절연막/실리콘 식각 장비(Insulator/Si Etcher·반도체 패턴 식각 장비) △구리도금 장비(Cu Plating) △금속 박막 증착 장비(Endura Sputter) △텅스텐 및 플라스마 강화 화학기상증착(W/PE-CVD) 장비 △구리 화학 기계 연마 장비(Cu CMP·구리 표면 평탄화 장비) 등을 보유했다.

한국나노기술원은 이 장비들을 활용해 실리콘 및 화합물반도체 분야 공정 기술 개발 74건, 기술지원 50건 등 성과를 거뒀으며 광소자, 상보형금속산화물반도체(CMOS) 등 실리콘 및 화합물 기반 공정 기술 지원을 위해 산·학·연 대상 총 1만2541건 공정서비스를 지원했다.

최근에는 생산 제품 성능·효율 개선을 위한 패키지 기술 수요가 증대함에 따라 기존 구축된 시스템반도체 장비를 활용·보완해 첨단패키지 공정 기술 개발 및 지원 인프라 구축을 통한 차세대패키지 전담 센터 운영 및 허브 역할을 수행할 예정이다.

또 한국나노기술원은 3차원(3D) 하이브리드 본딩 및 고밀도 패키지 기판 기술을 개발 중이며, 앞으로 차세대패키지 공정서비스 및 장비 개발을 지원할 예정이다.

이와 함께 기술원은 팹 시설에 구축된 장비를 산·학·연 이용자가 활용할 수 있도록 장비 교육 및 장비 관리를 강화해 나갈 계획이다.

금속 박막 증착 장비(왼쪽·Endura Sputter·금속 증착 장비)와 텅스텐 및 플라스마 강화 화학 기상 증착 장비(W/PE-CVD)
금속 박막 증착 장비(왼쪽·Endura Sputter·금속 증착 장비)와 텅스텐 및 플라스마 강화 화학 기상 증착 장비(W/PE-CVD)

기술원 관계자는 “한국나노기술원은 고도화된 연구 장비를 통해 국내 산·학·연을 대상으로, 차세대 패키지 관련 기술개발 서비스에 주력하고 있다”며 “반도체 소재·부품·장비 국산화, 시스템반도체 산업 육성 등 국가 핵심 정책에 적극 대응하고, 기초·원천 연구의 결과를 산업현장까지 직접 전파할 수 있도록 나노기술 연구개발·사업(R&DB) 거점기관 역할을 해 나가겠다”고 말했다.

그러면서 “올해도 기술원은 선제적 미래 수요에 대응한 장비고도화 및 연구역량 강화, 연구성과 확산 등 나노분야 국가 기술 경쟁력을 확보해 나노산업을 육성하고, 사회적 가치를 실현해 나가겠다”고 덧붙였다.

한국나노기술원은 나노소자 기술 분야 연구개발 및 조기 산업화를 지원할 수 있는 장비와 시설을 갖춘 화합물 반도체 중심의 나노인프라로, 시스템반도체 등 관련 산업 발전에 기여하고 있다.

수원=김동성 기자 estar@etnews.com