중국에서는 지난 70년대 중반부터 고청정·고순도 시제(Ultra-clean and High purity Reagents)를 연구·개발하기 시작했다. 이어 1980년에는 베이징화학시제연구소가 중·소규모 5㎛ 칩제작 기술에 사용되는 22개종의 금속산화반도체(MOS, Metal Oxide Semiconductor)용 시제를 처음으로 생산했다. 현재 상하이화학시제총공장, 톈진제3시제공장 등에서 MOS용 시제를 생산하고 있는데 연 생산규모는 3000톤 정도다.

　고청정·고순도 시제는 반도체 칩의 세척 및 부식, 규소 웨이퍼 표면세척 과정에서 불....