일본 NEC는 미국 슈른벨즈 테크놀로지사 및 동사의 일본법인 일본SKK사와 공동으로 LSI(대규모집적회로)의 고장을 종래의 60배 속도로 해석 하는 기술을 개발했다고 최근 발표했다.
"AFI (액티베이티드 폴트 이미징)법"으로 불리는 이 기술은 LSI의 영상을 전자빔으로 촬영, 불량품과 완성품의 상을 고속으로 비교.표시해 준다. 이에따라 영상이 교체될 때마다 양자의 영상에서 차이가 있는 부분, 즉 고장난곳만이 점멸, 고장을 순간적으로 파악하게 된다. LSI표면의 절연막에 전자를 조사하면 고장부분은 전위가 안정되지 않고 변동하기 때문에 전자가 대전 하기 어려운 밝은 영상을 얻을 수 있는데 이 현상을 이용, 정상 부분과 명암이 다른 영상을 만든다.
이 기술을 논리LSI에 적용하면, 이상 데이터가 점멸하면서 소자내를 흐르는모습을 관찰할 수 있는데 실시간으로 이상데이터의 움직임을 파악할 수 있고경로를 추적해서 고장부분을 발견할수 있다.
NEC는 이번에 개발한 기술이 고도의 전문지식이 없어도 위치를 측정할 수 있을 뿐만 아니라 종래의 60배 속도로 해석할 수 있다고 평가하고 있다. 앞으로 LSI시작품의 평가나 제품의 효율향상을 위해 활용해 나갈 계획이다.