일본 미쓰비시전기가 반도체의 제조공정에서 사용하는 마스크에 결함이 생기지 않도록 마스크 제작데이터를 초고속으로 검사할 수 있는 시스템을 개발했다고 "일경산업신문"이 최근 보도했다.
이에 따르면 미쓰비시가 개발한 것은 마스크에 복잡한 회로패턴을 써넣는전자빔묘화장치의 제어데이터가 회로설계자의 의도대로 됐는지를 검사하는시스템으로 반도체의 고집적화에 따라 실리콘 기판 위에 회로패턴을 형성하는마스크의 미세도나 복잡도가 증가하고 있는데 대응한다.
이 시스템은 신경회로를 모방한 뉴로칩을 이용, 지금까지 사람의 눈으로마스크 1장당 1백50시간 걸렸던 검사시간을 1시간 30분으로 크게 단축시킬수있어 반도체의 개발 및 시작기간의 단축, 효율화에 기여할 것으로 주목된다.
〈신기성기자〉