日마쓰시타, 美 반도체사업 계획 전면 재검토

일본의 마쓰시타전기가 미국내 반도체사업계획을 재검토하고 있는 것으로알려졌다.

「日本經濟新聞」의 최근 보도에 따르면 마쓰시타는 메모리시황의 악화로,미국에 건설할 계획인 새로운 반도체공장의 착공시기와 생산품목 등을 조정한다.

마쓰시타는 미국의 새 반도체공장을 아메리카마쓰시타반도체社 공장부지내에 건설한다는 계획아래 지난 4월 착공할 예정이었다. 그러나 환경보호 문제가 발생해 아직 착공하지 못한 상태이다. 마쓰시타는 당초 이 문제가 종결되는 즉시 착공할 계획이었으나, 그 사이 메모리시황이 급속히 악화됨에 따라 착공시기를 당분간 연기하기로 결정했다. 올해안에는 착공할 계획이나,가동시기는 당초계획보다 6개월이상 지연된 98년 중반께가 될 전망이다.

마쓰시타는 이와함께 새 공장의 생산품목도 조정한다. 당초 새 공장에는회로선폭 0.35미크론급 미세가공기술을 도입, 4MD램과 16MD램및 마이컴 등을생산할 계획이었다. 그러나 16MD램 시황조차 급격히 악화됨에 따라 설비를0.25미크론급으로 교체, 초기부터 64MD램 생산에 주력할 방침이다.

한편 마쓰시타는 뒤떨어진 반도체사업부문을 육성하기 위해 1천억엔규모를투자, 지난해 3천4백억엔이었던 생산액을 오는 2000년 6천억엔까지 끌어올린다는 계획을 세워놓고 있다.

그러나 메모리의 시황과 새 공장건설계획 연기등의 영향으로 이같은 생산의 목표가 하향조정될 가능성도 있을 것으로 보인다.

<심규호 기자>