일본 곡사이電氣가 12인치웨이퍼 成膜에 필요한 확산爐의 시제품을 개발했다고 일본 「日經産業新聞」이 최근 보도했다.
확산로는 실리콘웨이퍼표면에 산화막을 형성하는 반도체제조 前공정장비. 곡사이電氣가 개발한 시제품은 12인치웨이퍼용으로, 이 회사는 한번에 1백장정도의 웨이퍼를 일괄처리하는 것과 한장씩 가공하는 2가지 방식으로 나누어 개발했다.
곡사이電氣는 오는 11월 업무를 시작하는 12인치웨이퍼용 반도체제조장비 평가업체 「반도체첨단테크놀로지스」에 이 장비의 성능평가를 의뢰, 내년 4월께부터 이 평가자료를 토대로 장비개량 및 제조가격절감 등에 착수할 방침이다.
곡사이電氣는 이 장비의 양산기종을 오는 99년까지 완성하여, 2000년부터 본격채용되는 12인치웨이퍼용 장비시장을 선점한다는 목표를 세워 놓고 있다.
<심규호 기자>