일본 광전자공업연구소가 반도체 첨단기술을 연구하는 「기반기술센터」를 설립한다.
일본 「日刊工業新聞」의 최근 보도에 따르면 광전자공업연구소는 앞으로 3년간 약 30억엔을 투자해 기반기술센터를 건설, 차세대 광디바이스 및 제조프로세스를 연구개발한다.
교토시에 위치한 본사 건물 옆에 신설되는 기반기술센터는 크린룸을 갖춘 최신 설비와 양산시작용 제조라인이 일부 도입된다. 광전자공업연구소는 이 센터를 통해 차세대 고기능 포트IC와 반도체제조프로세스 등을 연구할 방침이다.
광전자공업연구소는 센터 설립을 위해 이미 지난 10월 본사 제4공장 주변에 건설용지를 확보했놓고 있는데 시설규모와 건설기간 등은 앞으로 사내 검토위원회에서 결정할 계획이다.
한편 광전자연구소는 지난해 한국자회사 「한국광전자연구소」에 웨이퍼프로세스 관련 새 공장을 건설하고 일본 국내에서 처리해 온 전공정을 전면 이관했다. 따라서 광전자연구소는 일본에서 처리할 새로운 사업영역의 개발을 검토해왔다.
<심규호 기자>