일본 도시바가 선폭 0.15미크론 이하 반도체 소자 제조에 필요한 고정밀 전자빔 회로형성기술을 일본 최초로 개발했다.
일본 「日經産業新聞」에 따르면 도시바는 기판상에 회로패턴을 형성할 때 사용되는 마스크 제조에 필요한 기술을 개발하고 이 기술을 적용한 실험장치를 제작하는 데 성공했다.
도시바측은 새 기술을 이용한 실험장치로 회로를 형성한 결과, 원판상의 패턴 위치 차이가 0.01-0.02미크론으로 줄어들었다고 밝혔다. 기존 장치의 경우 미세한 교정을 거쳐도 0.03미크론 이상의 위치 차이가 발생했다.
도시바는 또 전자빔의 축 이동을 조정하는 제어시스템도 자동화해 위치결정 정밀도를 기존의 10분의 1인 0.002미크론으로 줄였다.
선폭 0.15미크론급 미세가공기술은 D램의 경우 기가급 제품생산에 활용된다. 도시바는 2000년대 초 일반화될 전망인 GD램 양산시기에 맞추기 위해 이번에 개발된 0.15미크론 기술의 실용화를 서두를 방침이다.
<심규호 기자>