일본 오키전기가 올해 반도체부문 설비투자규모를 대폭 줄인다.
「日本經濟新聞」 최근 보도에 따르면 오키는 올해 반도체부문 설비투자비를 지난해보다 30% 정도 줄어든 3백10억엔으로 책정했다.
오키는 올해 미야고노조공장에 약 1백50억엔을 투자해 선폭 0.25미크론급 미세가공라인을 도입, 64MD램 생산규모를 늘린다. 또 미야자키공장에도 약 30억엔을 투입해 64MD램을 상반기 월 5만개, 하반기 월 40만개 생산할 계획이다.
반도체생산 자회사인 두 공장의 올해 투자규모는 모두 지난해의 절반에도 못미치는 수준으로, 오키는 올해 반도체부문 설비투자비의 40%인 1백30억엔을 차세대반도체 연구거점인 하지오지 초LSI연구센터에 집중시킬 계획이다. 이같은 센터 투자 규모는 지난해 보다 약 60% 늘어난 것으로 2백56MD램과 1GD램 개발을 가속화하기 위한 때문으로 풀이된다.
오키의 지난해 반도체부문 설비투자규모는 총 4백37억엔으로 부문별로는 미야고노조공장이 2백81억엔, 미야자기공장이 74억엔, 하지오지 초LSI연구센터가 80억엔이었다.
<심규호 기자>