일본 고마쓰는 0.13미크론 공정의 반도체 설계에 사용할 수 있는 협대역 2㎑ 초자외선(DUV:Deep Ultraviolet) 엑시머 레이저 광원을 사용한 레이저인 G21K를 개발했다고 15일 밝혔다.
「G21K」는 0.15미크론 공정에 사용되는 G20K의 후속 제품으로 조리개 구경이 큰 고품위 스테퍼와 스캐너에 사용된다.
고마쓰는 G21K에서 0.13미크론 노드를 구현하기 위해 대역폭을 0.6피코미터에서 0.5피코미터로 축소시켰으며 에너지 주사 안정성을 0.4%에서 0.35%로 개선했다.
함종렬기자 jyham@etnews.co.kr