일본반도체업체들이 차세대 반도체 공정인 0.1미크론(1미크론:100만분의 1m) 기술 개발에 적극 나선다.
세계반도체재료협회(SEMI) 일본지사가 최근 발표한 바에 따르면 NEC히타치·도시바 등 일본 주요 반도체 업체 8개사는 이를 위해 새세기반도체위원회(SNCC:Semiconductor New Century Committee)를 결성했으며 0.1미크론 기술 및 장비 등에 대폭 투자할 계획으로 알려졌다.
현재 일본에는 차세대 반도체기술 관련 단체로 SeLETe(Semiconductor Leading Edge Technology), ASET(Association of Super Advanced Electronics Technology) 등이 있는데 0.1미크론 기술에 대해 이번처럼 대규모 투자계획을 밝힌 단체는 SNCC가 처음이다.
SNCC는 장비 개발 등 구체적 안을 만들어 정부에서 자금조달을 받을 계획으로 알려졌는데 구체적인 액수는 밝혀지지 않았다.
SNCC 회장은 히타치의 통합칩부문 엔지니어 팀장인 스기오 마키모토씨가 맡은 것으로 알려졌는데 스기오씨는 『SNCC는 항후 일본이 세계적 반도체국가로 거듭나기 위해 필요한 기술 등 각종 지침을 제시할 예정』이라고 밝혔다.
도시바의 전략기획부문 매니저인 요시히드 후지씨도 『SNCC가 결성됨으로써 일본이 세계최고 반도체 국가가 되는 데 중요한 첫 걸음을 내딛었다』며 『SNCC는 차세대 공정인 0.1미크론으로 가는 데 필요한 갖가지 연구와 이에 따른 비용을 줄일 수 있는 방법 등을 연구할 것』이라고 말했다.
일본은 지난 10월에도 민관 공동으로 차세대 반도체 기술개발 프로젝트를 20년만에 재개한다고 밝힌 바 있다.
한편 미국, 한국 등도 0.1미크론 공정 개발에 열을 올리고 있는데 세계 반도체 소자 및 장비업체들이 이처럼 차세대 노광장비 개발에 힘을 쏟는 이유는 현재의 반도체 노광공정에 주로 사용되는 자외선스테퍼 회로선폭 한계가 0.15미크론에 불과해 향후 반도체의 집적용량이 G급 단위로 넘어갈 경우 0.1미크론 이하의 미세회로까지 형성할 수 있는 노광기술 확보가 불가피하기 때문이다.
방은주기자 ejbang@etnews.co.kr