일본 히타치플랜건설이 반도체 공장내의 필요 부분만을 효율적으로 청정하는 국소(局所)청정형 클린룸을 개발했다고 「일본경제신문」이 전했다.
히타치플랜이 이번에 개발한 국소청정형 클린룸 「미니인바이런먼트」는 기존 클린룸이 반도체 제조장치가 놓여 있는 방 전체의 청정도를 높이는 데 대해 반도체 제조장치의 앞쪽에 부착해 청정도가 높은 밀폐공간을 만들어 준다.
도입 비용은 면적 약 3000㎡당 30억엔이다.
이 정도 규모의 공장에서 사용할 경우 종전에 비해 초기 투자를 20%, 운영 비용을 14% 정도 줄일 수 있을 것으로 예상된다.
신기성기자 ksshin@etnews.co.kr