빛을 이용해 선폭 0.05미크론 이하의 미세회로를 형성시킬 수 있는 제조기술이 개발됐다고 「일본경제신문」이 보도했다.
일본 공업기술원과 산업기술융합영역연구소는 빛을 이용해 기존의 반도체 제조장치로는 실현할 수 없었던 미세한 반도체소자의 제조에 성공했다고 밝혔다.
신기술은 선폭 0.14미크론(1미크론은 100만분의 1m)의 회로패턴을 그릴 수 있고 이론적으로는
0.05미크론 이하에서도 회로형성이 가능한 것으로 알려지고 있다. 기존의 기술로는 0.1미크론 이하의 형성은 불가능한 것으로 되어 있었으나 이 벽을 넘을 수 있는 기술로도 평가되고 있어 주목된다.
또 신기술에서는 감광막 위에 강한 빛을 쬐게 되면 변질해 빛을 통과시키는 특징을 가진 안티몬(금속의 일종) 박막을 붙힌 다음 가늘게 좁힌 광선을 안티몬막의 필요한 장소에 쬐어 작은 구멍을 만들고 이 구멍을 통해 감광재료를 발광시키는 방식을 채택하고 있다.
현재 반도체 기판상에 미세회로를 형성시키는 기술로는 전자빔 및 방사광이라고 불리는 빛을 사용하는 방법 등이 있다.
<명승욱기자 swmay@etnews.co.kr>