차세대 70㎚(0.07미크론) 리소그래피 공정 개발을 위한 2개의 동맹이 일본에서 결성됐다고 EE타임스가 보도했다.
이에 따르면 일본의 셀리트와 다이닛폰프린팅, 도판프린팅, 혼야 등 3개 마스크 제조업체들이 157㎚ F2 레이저를 사용해 70㎚ 리소그래피 공정에 필요한 마스크를 공동으로 개발키로 했다. 3개 마스크사는 R&D 비용을 줄이기 위해 일반 분야에서 서로 협력키로 했다고 밝혔다.
셀리트 동맹은 마스크 생산 인프라스트럭처와 F2 마스크 기술 개발에 초점을 맞추고 다른 장비 및 재료업체 등을 대상으로 동맹을 확대할 계획이다.
셀리트는 오는 2004년 3월까지 기본 마스크 기술 개발을 완료하고 이후 쓰쿠바에 위치한 청정실의 R&D 라인에서 검증 테스트를 실시할 계획이다.
한편 캐논과 도쿄일렉트론은 셀리트 동맹이 사용할 차세대 F2 레이저 기술의 잠재적인 문제점을 해결하는 데 협력키로 했다. 도쿄일렉트론은 이번 제휴에 따라 자사의 300㎜ 웨이퍼 코터와 개발인력을 캐논의 우추노미야 공장으로 보낼 계획이며 이곳에서 F2 리소그래퍼가 개발된다.
캐논은 이번 제휴에 앞서 인피니온테크놀로지스와 공동으로 F2 리소그래퍼 개발에 들어갔으며 첫 70㎚ 장비를 2003년 2분기 인피니온에 공급할 예정이다.
이와 관련, 캐논의 대변인은 “캐논은 F2를 차세대 리소그래피의 주요 레이저로 정했다”며 “F2는 대량 생산 라인에 적합하다”고 설명했다.
<황도연기자 dyhwang@etnews.co.kr>