인텔이 첫 65㎚ 마스크 세트의 제조에 들어갔으며 이번 분기에 이를 마무리하고 테스트에 들어갈 수 있을 것이라고 밝혔다고 EE타임스가 보도했다.
인텔은 또 극자회선(EUV) 리소그래피 기술을 이용하는 32㎚ 공정을 위한 마스크도 제작중이다.
인텔은 올해 90㎚ 공정 기술을 이용한 마이크로프로세서 제조에 들어가고 65㎚ 공정은 오는 2005년에 가능할 것으로 기대하고 있다. 또 이 회사는 오는 2007년에는 업계에서 처음으로 EUV 32㎚ 공정을 생산라인에 적용할 수 있을 것으로 보고 있다.
인텔은 그동안 약 2년 주기로 새 공정기술을 적용해왔으며 이번 발표는 공정의 미세화로 포토마스크 가격이 천정부지로 치솟고 있는 가운데 나온 것이어서 주목된다.
<황도연기자 dyhwang@etnews.co.kr>