일본 반도체업계의 합종연횡 움직임 속에 업계 단체인 일본전자정보산업협회(JEITA)가 오는 2010년까지 세계 반도체 기술을 선도할 차세대 반도체 개발에 총 900억엔(약 7450억원)을 쏟아 붓는 결정을 내렸다.
30일 니혼게이자이 등 일본언론은 JEITA 반도체부회가 올해부터 2010년까지 향후 5년 동안 민·관에 의한 차세대 반도체 연구 체제를 지원하기 위해 900억엔을 투입한다고 일제히 보도했다.
JEITA의 이번 프로젝트는 히노마루반도체연합, 도시바·NEC·소니 등 3개사 연합 등 초대형 프로젝트를잇따라 발표하고 있는 일 반도체업체들을 일본 정부가 직접 지원하겠다는 의지로 풀이된다.
JEITA반도체부회는 이토 사토루 르네사스테크놀로지 사장이 부회장을 맡고 있다.
당초 JEITA는 2010년까지 연간 약 150억엔씩 총 750억엔을 투입할 계획이었지만 이를 늘려 개발 역량을 집중키로 했다. 주된 목표는 회로선폭 45㎚의 반도체와 32㎚ 차세대 반도체의 제조 및 설계 기술 개발에 있다. 일본정부의 구상은 개발을 민·관 합동으로 하되, 제조는 반도체업체들에게 맡긴다는 것이다.
특히 이 프로젝트는 JEITA 산하 반도체집행위원회에서 진행 중인 ‘아스카 프로젝트’와 경제산업성·도시바·후지쯔 등 민간기업 25개사가 공동으로 추진 중인 ‘미라이프로젝트’와도 연계된다. 다음 달부터 본격 개시되며 공동 추진기관은 아스카 조직인 셀레트(Selete)와 미라이로 알려졌다.
셀레트에는 현재 11개사가 동일하게 출자하고 있는데 2년 후 현재 55억엔인 자본금을 감자해 도시바·르네사스테크놀로지·NEC·후지쯔 등 4개 업체가 과반을 출자하는 체제로 탈바꿈시킬 예정이다.
연구도 아스카와 미라이에 참여한 쓰쿠바 연구소의 슈퍼 클린룸 주 축으로 이뤄지며 주로 극자외선(EUV) 등 첨단 기술을 활용한 반도체 기술 확보에 초점이 맞춰진다.
JEITA는 “각 반도체 업체들의 비즈니스 모델이 다양해지고 또 기존 반도체 개발 컨소시엄의 기대치가 변하고 있다는 점을 감안한 국가 프로젝트로서 일본 반도체 산업에 새로운 활력소로 작용할 것”이라고 기대했다.
정부와 업계도 미라이에 이은 선폭 45㎚ 이하 프로세서의 실현으로 전자산업 기반을 지탱하는 반도체 산업의 국제 경쟁력을 높여주는 계기가 될 것으로 전망하고 있다.
명승욱기자@전자신문, swmay@