어플라이드머티어리얼즈는 10나노미터 이하 공정을 위한 멀티플 패터닝용 광학 리소그래피 포토마스크 식각 장비 ‘센츄라 테트라Z 포토마스크 식각 장비’를 21일 발표했다.
로직과 메모리 개발 시 패터닝 사양을 충족하는데 필요한 포토마스크 임계치수(CD) 변수(parameters)에 옹스트롬 수준의 정확성을 제공한다.
어플라이드는 차세대 크롬(chrome), MoSi(몰리브덴 실리콘 옥시나이트라이드), 하드마스크, 2원소(binary)와 위상반전마스크(PSMs)를 제작하는데 사용하는 석영(용융 실리카) 식각 애플리케이션을 위해 테트라Z를 개발했다. 4중 패터닝과 최첨단 해상도 향상을 위해 이머전 리소그래피를 확장한다. 사실상 무결점 상태의 패턴 밀도를 제공한다고 회사 측은 설명했다.
라오 야라만치리 어플라이드 마스크 식각 장비 부서 총괄 책임자는 “193나노 빛 파장을 사용해 10나노 또는 7나노 패턴을 생산하려면 포토마스크 의존도가 높은 이머전과 멀티플 패터닝을 포함한 최적의 기술이 필요하다”며 “테트라Z는 차세대 광학 포토마스크를 식각하기 위해 요구되는 정확성을 제공하는 유일한 장비”라고 말했다.
배옥진기자 withok@etnews.com
