나노종합기술원(원장 이재영)과 한국과학기술원(총장 강성모)이 10㎚급 나노 구조를 대면적으로 저가에 제작할 수 있는 차세대 공정기술을 공동 개발했다.
이번에 개발한 공정기술은 자기조립 물질과 플라즈마 이온반응을 이용해 10㎚대 초미세 나노구조체를 대면적으로 제작할 수 있는 차세대 나노구조체 제작 원천기술이다.
이번 공동연구에는 전환진 나노종합기술원 박사와 KAIST 정희태 교수(나노융합연구소 소장)팀, 김상욱 교수(신소재공학과)팀, 신종화 교수팀이 주도하고, 김주영 박사, 정우빈 박사과정생, 한국과학기술연구원 정현수 박사, 한국화학연구원 김윤호 박사, 한국전자통신연구원 신동옥 박사가 참여했다.
기존 기술은 나노 구조체를 만들기 위해 수백억원대 고가 형상제작 장비가 필요하지만 이 기술은 간단한 플라즈마 반응을 이용해 저비용으로 10㎚급 초미세 3차원 나노구조체를 대면적으로 제작할 수 있는 원천기술이다. 반도체·디스플레이·전자소자 등 분야에 적용해 기술경쟁력과 가격경쟁력을 동시에 갖출 수 있다.
전환진 나노종합기술원 박사는 “반도체를 포함한 미래 전자소자에 필수인 미세나노구조 제작 기술은 학계와 산업계의 숙원이었는데, 이번에 개발한 기술은 천문학적인 비용이 드는 고가 장비가 필요 없다”며 “반도체뿐만 아니라 디스플레이, 에너지, 촉매 등 다양하 분야에 그대로 활용할 수 있다는 점에서 산업적 의의가 크다”고 설명했다.
한편 이번 연구는 미래창조과학부가 추진하는 GRDC(해외우수연구기관 유치사업) 지원으로 이뤄졌다. 연구결과는 세계적인 학술지인 `어드밴스드 매터리얼스` 온라인판 8월 4일자(현지시각)에 게재됐다.
대전=김순기기자 soonkkim@etnews.com