삼성전자는 31일 3분기 실적 컨퍼런스콜에서 “중장기 수요 증가 대응하기 위해 시안 2기 공장은 기존 계획대로 올해 말 공사를 완료하고, 내년 초부터 가동 시작한다”고 밝혔다.
P2 평택 공장 투자에 관해서는 “내년 가동 예정으로 시험 생산을 위한 투자는 있으나, 본격적 양산 시점은 미정인 상태로 수요 변동 상황 지켜보며 탄력적으로 운영할 계획”이라고 전했다.
1z 램프업 시점에 관해서는 “계획대로 양산 중이고 10나노 공정 제품이 올 연말 70% 후반에서 80% 초반을 차지할 것으로 보인다”면서 “내년에는 1y 공정을 주요 공정으로 할 것”이라고 말했다.
극자외선(EUV) D램 공정 도입 여부는 “기술 평가 위주로 진행하고 있고, 경제성 확보된다고 판단할 때 도입할 예정”이라고 말했다.
강해령기자 kang@etnews.com