한국전자기술연구원(KETI)과 그래핀랩이 5일 그래핀 기반 차세대 극자외선(EUV) 펠리클 핵심공정 기술 개발 업무협약을 체결했다.
KETI와 그래핀랩은 △EUV 펠리클 핵심공정 기술 공동 사업 발굴·기획·연구 협력 △산·연 EUV 펠리클 공동 연구실 개소와 2세대 펠리클 제조기술 협력 △EUV 펠리클 제조 핵심공정 기술 인력 교류 등을 추진하기로 했다.
펠리클은 회로가 새겨진 포토마스크 표면을 외부 오염으로부터 보호하는 반도체 공정 부품이다.
KETI와 그래핀랩은 그래핀 기반 2세대 펠리클 세계 최초 구현을 목표로 삼았다. 2세대 펠리클은 출력이 350W 이하로 제한됐던 1세대 펠리클 EUV 조사 환경보다 높은 수준을 갖춘 것이 핵심이다.
2세대 펠리클 구현으로 국내 초미세 반도체 소자 양산공정 수율 향상이 기대된다.
KETI는 2020년 5월 과학기술정보통신부 지원으로 출범한 국가핵심소재연구단 내 EUV 마스크/펠리클 소재연구단 총괄을 맡았다. 연구단은 2세대 EUV 펠리클 원천소재를 확보해 대일 의존도가 높은 소재, 부품 국산화와 기술 확산을 추진하고 있다.
그래핀랩은 주요 대학과 연구소에서 필요로 하는 연구 개발용 그래핀 소재를 생산·공급하고 있다. 그래핀은 지난해 소부장 전문기업확인서를 취득했다.
장영진 KETI 원장은 “KETI의 EUV 펠리클 핵심기술과 그래핀랩의 그래핀 소재·장비 양산화 경험이 더해지면 다양한 고부가가치 소재, 응용 분야에도 산·연 협력 성공사례를 창출할 것”이라고 밝혔다.
송윤섭기자 sys@etnews.com
