인텔은 미국 오리건주에 위치한 론러 에이커스 캠퍼스를 인텔 공동 창업자 고든 무어의 이름을 딴 '고든 무어 파크'로 바꿨다. 무어의 법칙을 50년 이상 이끌어 온 캠퍼스 역사와 공로를 기리기 위해서다.
인텔은 11일(현지시간) 론러 에이커스 캠퍼스 안에 있는 반도체 공장 D1X 확장 행사를 가지며 이같이 밝혔다. 30억달러 이상 투자한 D1X의 '모드3(Mod3)'는 약 7500평 규모 무균실을 갖췄다. 이 무균실에서 차세대 차세대 실리콘 공정 기술을 개발한다.
인텔은 50여년간 오리건주와 인연을 맺어왔다. 오리건주 힐스버러에 위치한 인텔 캠퍼스 4곳에 임직원 2만2000명이 근무하고 있다. 모드3 확장까지 인텔이 오리건주에 투자한 금액은 520억달러 이상이다.
그 중 실리콘 공정 엔지니어링 직원 약 1만명이 근무하는 고든 무어 파크는 인텔 글로벌 기술 개발 조직 본부다. PC, 클라우드, 5세대(5G) 네크워크 기반이 되는 신규 트랜지스터, 웨이퍼 공정, 패키징 기술을 개발한다.
신규 공정 기술은 오리건주에 있는 중앙 개발 공장에서 인텔의 글로벌 제조 네트워크 시설로 이전된다.
팻 겔싱어 인텔 최고경영자(CEO)는 “인텔은 창립 이래 무어의 법칙을 끊임없이 발전시키는 데 주력해왔다”며 “새롭게 확장하는 D1X는 종합반도체기업(IDM) 2.0 전략을 달성하기 위해 역량을 강화할 것이다”고 말했다.
인텔은 지난해 △신규 트랜지스터 아키텍처 리본펫(RibbonFET) △후면 전력 공급 기술 파워비아(PowerVia) △차세대 리소그래피인 하이NA EUV 등 새 제품에 활용될 획기적 기술 로드맵을 공개한 바 있다.
송윤섭기자 sys@etnews.com
