1992년 출범, 포토마스크 분야 중견기업으로 성장한 네프코가 새로운 신규 수익원 발굴과 판로 확장에 고삐를 죄고 있다.
유리 기판에 수 마이크로미터(㎛) 미세회로를 형성한 것이 포토마스크다. 반도체 칩, 디스플레이, PCB 기판 등에 노광 공정을 진행할 때 빛 투과와 차단을 통해 회로를 전사시키는 사진 원판 역할을 한다. 무결점 핵심 광학 정밀 부품이다.
대표적으로 크롬마스크와 에멀전마스크가 있다. 크롬마스크는 반도체 직접 회로 구조 패턴 형상을 크롬 도포 유리 기판에 형성한 것이다. 가시광선, 자외선, X선 등을 이용한 노광장비에 사용되며 레지스트의 미세한 상을 표현하는 능력이 우수하다.
에멀전마스크는 할로겐화 은이 도포된 유리 기판을 사용해 패턴을 형성한 것이다. 노광 시 빛을 받은 부분이 현상액에 용해되지 않고 패턴으로 형성되는 '네거티브 타입'이며 20㎛ 이상 패턴에 적합하다.
네프코는 이런 포토마스크 분야 관련 특허를 8개 이상 보유하고 있으며 글로벌 전자 부품사와 디스플레이 강소기업 300여 고객사를 확보하고 있다. 최근 오염에 강한 친환경 '방오 마스크', '파인메탈마스크(FMM)'용 포토마스크를 개발했다.
이 중 방오 마스크는 마스크 표면에 기능성 박막 코팅을 적용해 오염물로부터 마스크를 보호하는 역할을 한다.
방오 마스크를 공정에 적용한 고객사들은 △양산 수율 향상 △유해 약품을 사용하지 않는 건식 세정을 통한 작업 안전성 확보 △약품 규제로부터 자유로운 친환경 세정 △편리한 세정 관리로 공정시간 단축 등 이점을 얻었다.
노광 공정 중 마스크 오염방지는 물론 약품 사용을 하지 않는 친환경 방오 포토마스크 제조, 접촉 노광 방식 시장에서 우수한 성능을 입증해 국내 유수 기업이 네프코 제품을 사용하고 있다. 네프코는 2018년 국무총리 표창, 2019년 산업통상부 장관상을 받는 등 대내외적으로 방오 마스크 기술력을 인정받고 있다.
이 밖에 다양한 특허를 보유하고 있다. 레이저 노광기용 하이파워 마스크 특허를 보유하고 있다. 이는 기존 방식과 달리 레이저 노광 방식이다. 현상·에칭·박리 공정이 필요없다.
투과도 향상형 신제품인 고투과율 마스크의 경우, 소다-라임(Soda-Lime) 기판이 석영(쿼츠) 마스크에 버금가는 93% 이상 빛 투과율을 갖도록 하는 특허를 보유하고 있다.
네프코는 이런 기능성 포토마스크 기술 경쟁력을 토대로 글로벌 기업과 경쟁 우위를 점한다는 계획이다.
김영준기자 kyj85@etnews.com
