SK하이닉스가 '혁신특허포상' 시상식을 지난 7일 개최했다. 기술혁신 특허를 발명한 구성원에게 포상을 실시했다.
최고상인 금상은 2건으로 신범주 DRAM개발 TL과 황선환 미래기술연구원 TL·장세억 SKHU(SK하이닉스 사내대학) 교수에게 돌아갔다. 신 TL은 D램 내부 회로를 개선해 소비 전력을 낮췄다. 황 TL과 장 교수는 D램 내부 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높였다.
SK하이닉스는 이외에도 낸드, 패키지 등 다양한 기술 분야에 걸쳐 총 10건의 혁신특허를 선정했다. 이를 발명한 구성원 19명에게 상패와 총상금 2억1500만원을 수여했다.
올해로 5회째를 맞은 혁신특허포상 시상식은 김윤욱 지속경영담당 부사장, 민경현 특허담당 부사장 등이 수상자 조직이 있는 현장에 직접 찾아가는 방식으로 진행했다.
SK하이닉스는 2018년부터 매년 혁신특허포상 제도를 실시해 회사 매출과 기술혁신에 크게 기여한 특허를 선정, 이를 발명한 구성원을 포상하고 있다. SK하이닉스는 구성원 연구 의욕을 고취하고 회사 이익과 기술력이 증대되는 선순환 구조를 형성해 특허를 지속 발굴할 계획이다.
송윤섭기자 sys@etnews.com
