와이씨켐, 반도체 세정장비 첫 출하

와이씨켐
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와이씨켐은 신사업으로 개발한 반도체 세정 장비를 국내 소재 업체에 공급했다고 1일 밝혔다.

와이씨켐 장비는 한 장의 웨이퍼를 처리하는 싱글 타입과 여러 장의 웨이퍼를 동시에 세정하는 배치 타입이 모두 가능한 하이브리드 장비다. 향후 장비 모듈화를 통한 고도화를 거쳐 양산용 장비로 개발할 예정이다.

와이씨켐 장비 신사업부는 세정 장비 이외에도 '고선택비 인산 농도 분석' 장비를 개발 중이다. 낸드플래시 식각 공정에서 사용하는 고선택비 인산계 식각액의 농도를 실시간 측정해 교체 시기를 알려주는 장비다.

회사 관계자는 “세정장비 첫 출하를 시작으로 다양한 고객을 확보해 신사업 장비 사업부의 매출 비중을 높여갈 계획”이라고 말했다.

박진형 기자 jin@etnews.com