코스닥 상장사 에스티아이는 EUV POD CLEANER 장비를 수주했다고 2일 밝혔다.
에스티아이가 수주한 장비는 EUV 노광 장비의 레티클(RETICLE)을 보관하는 전용 POD를 세정하는 장비다. 순수 자체 기술 개발을 통해 품질과 생산성을 혁신적으로 향상시켜 국산화에 성공했다.
에스티아이는 EUV POD에 최적화된 전용 세정 장비를 구현하기 위해 자체 특허 기술을 적용해 장비 성능을 검증 받았다. 이 기술을 기반으로 타사대비 경쟁력 있는 양산성을 확보하는 것이 목표다.
EUV 공정은 기존의 DUV(심자외선) 보다 훨씬 짧은 파장의 빛을 사용해 웨이퍼에 더욱 세밀한 회로를 형성한다. 이를 통해 반도체 칩의 크기를 줄이고 집적도를 높여 전력 효율성과 성능을 획기적으로 향상시킬 수 있다.
에스티아이 측은 이번 수주를 계기로 향후 국내외 글로벌 반도체 업체 등 다양한 고객사로 납품을 확대할 수 있을 것으로 기대했다. 시장조사기관 비즈니스리서치인사이트에 의하면 레티클 POD 클리너 시장 규모는 2028년까지 6100만 달러에 도달할 것으로 예상하고 있다.
에스티아이 관계자는 “인공지능(AI) 서버 및 모바일용 메모리 등의 수요 증가로 반도체 산업의 업황이 전반적으로 개선될 것”이라면서 “수주 실적 개선 또한 가시화 될 것”이라고 밝혔다. 이어 “국내 고객사에게 기술력을 인정 받은 신규 장비인 HBM용 플럭스 리플로어(Flux Reflow) 및 플럭스리스 리플로어(Fluxless Reflow)의 수주 또한 순조롭게 진행 중”이라고 밝혔다.
류근일 기자 ryuryu@etnews.com
