그린광학이 반도체 노광장비인 극자외선(EUV)용 블랭크 마스크 석영 기판 연마 기술을 개발했다. EUV 블랭크 마스크는 반도체 웨이퍼에 초미세 회로를 새길 때 사용하는 포토마스크 원재료다. 일본 호야, 아사히글라...
2022-10-10 11:11
그린광학이 반도체 노광장비인 극자외선(EUV)용 블랭크 마스크 석영 기판 연마 기술을 개발했다. EUV 블랭크 마스크는 반도체 웨이퍼에 초미세 회로를 새길 때 사용하는 포토마스크 원재료다. 일본 호야, 아사히글라...