에스앤에스텍이 투과율 91%의 극자외선(EUV) 펠리클을 개발했다. EUV 공정에 적용될지 주목된다. 에스앤에스텍은 최근 사업보고서를 통해 투과율 91%의 펠리클 제품을 개발했다고 밝혔다. 2021년 투과율 90% 달성에...
2023-03-20 10:32
에스앤에스텍이 투과율 91%의 극자외선(EUV) 펠리클을 개발했다. EUV 공정에 적용될지 주목된다. 에스앤에스텍은 최근 사업보고서를 통해 투과율 91%의 펠리클 제품을 개발했다고 밝혔다. 2021년 투과율 90% 달성에...
삼성전자가 이르면 연내 극자외선(EUV) 노광 공정에 펠리클을 투입할 전망이다. 펠리클은 노광공정 중 발생할 수 있는 마스크(반도체 회로가 그려진 판) 오염을 방지하는 부품이다. EUV가 최근 도입된 기술이다보...
삼성전자가 극자외선(EUV) 노광 공정 핵심 부품으로 꼽히는 펠리클의 국산화에 다가섰다. 투과율 88% 펠리클을 자체 기술로 개발하는 데 성공했다. EUV 펠리클은 그동안 외산이 독점하던 것으로, 공급망 다변화와...