일본 엘피다가 세계에서 가장 앞선 미세기술인 25나노 공정으로 만든 메모리를 내놨다. 지난 5월 초 계획 발표 후 궁여지책이라는 의구심이 계속 제기됐지만 엘피다는 7월이라는 약속 시한을 지킨 셈이다. 앞으로 한일 양국의 차세대 메모리 경쟁이 더욱 치열해질 전망이다.
엘피다가 7월 말부터 25나노 공정을 적용한 2기가비트 용량의 DDR3 SD램 시제품을 출하했다고 일본 주요 언론이 2일 일제히 보도했다.
이 제품은 메모리 회로 폭이 25나노미터다. 1나노미터는 10억분의 1미터다. 사람 머리카락 굵기의 1만분의 1에 해당하는 미세한 단위다. 우리나라 반도체 업체들은 현재 30나노 공정 제품까지 내놓은 상태다.
회로 폭이 미세하면 반도체 재료인 웨이퍼에서 더 많은 제품을 만들 수 있어 경제성이 높아진다. 엘피다 측은 25나노 공정으로 만든 메모리는 30나노 제품보다 생산 효율이 약 30% 높아진다고 밝혔다. 메모리 크기가 작아져 스마트폰이나 노트북 등의 소형화에도 도움을 준다고 덧붙였다.
엘피다의 신제품은 전력 소모도 감소했다고 전해진다. 30나노 제품보다 동작 전력 15%, 대기 전력 20%를 줄였다고 엘피다는 발표했다. 엘피다는 2기가비트 제품에 이어 연말까지 4기가비트 DDR3 SD램을 내놓겠다고 선언했다.
장동준기자 djjang@etnews.com