SK하이닉스, 사내 기술 교류로 미래 성장 기반 마련

SK하이닉스(대표 박성욱)는 사내 기술 교류를 확대하기 위해 ‘제2회 SK하이닉스 학술대회’를 지난달 30일 개최했다.

SK하이닉스 학술대회는 연구개발(R&D)·제조 등 기술 분야 임직원 간 학술 교류를 통해 미래 기술 한계를 극복하고 엔지니어 역량 강화를 목적으로 지난해 시작됐다. 올해 행사는 ‘한계를 넘어라’는 주제 아래 △소자·공정 △설계·솔루션 △제품·응용기술 △차세대 제품 △제조·품질 5개 분과로 진행됐다.

SK하이닉스는 경기도 이천 본사에서 사내 기술 교류 행사인 `제2회 SK하이닉스 학술대회`를 개최했다. 박성욱 사장이 인사말을 하고 있다.
SK하이닉스는 경기도 이천 본사에서 사내 기술 교류 행사인 `제2회 SK하이닉스 학술대회`를 개최했다. 박성욱 사장이 인사말을 하고 있다.

SK하이닉스는 지난달 30일 경기도 이천 본사에서 박성욱 사장을 비롯한 1500여 임직원이 참석한 가운데 우수논문 발표회와 시상식을 진행했다. 대상은 미세공정에 따른 특성 확보의 어려움을 극복하기 위해 ‘D램 신뢰성 향상 방안’을 연구한 권일웅 책임이 수상했다.

학술대회 상임위원장을 맡은 김용탁 DRAM개발부문장(부사장)은 “향후에도 임직원 간 기술교류를 더욱 활성화하고 발전적인 경쟁을 유도해 기술 기반 성장을 촉진할 계획”이라고 말했다.

이호준기자 newlevel@etnews.com