유진테크는 세미콘코리아 2016에 고성능 화학증기증착(CVD) 장비와 실리콘 에피텍셜(Silicon Epitaxial) 성장 장치, 고성능 건식 세정(Dry Cleaning) 장비 등을 전시한다.
유진테크 주력 제품은 반도체 전(前) 공정 가운데 박막 형성에 필요한 저압화학증기증착(LPCVD) 장비다. 이 회사는 싱글 타입(Single-type) LPCVD 분야에서 세계 최고 기술력을 보유한 것으로 평가받는다. 전체 CVD 시장 80%를 차지하는 배치 타입(한 번에 100여장 가공)이 아닌, 싱글 타입(한 번에 한 장 가공)을 채택해 차별화를 꾀했다. 싱글 타입 CVD로 생성하는 박막은 두께, 균일도가 우수해 메모리 반도체 분야 공정 전환 시 수요가 크게 증가한다.
유진테크는 2006년 코스닥에 입성할 당시 연매출이 170억원에 불과했으나 지난해 1000억원에 근접한 매출액을 기록한 것으로 증권가는 추정했다. 매출액 확대 추이는 이 회사 LPCVD 기술력이 시장에서 인정을 받았다는 증거다.
유진테크는 최근 시장 요구 다양화와 반도체 공정 미세화에 대응하고자 사이클릭(Cyclic) 방식 CVD 장비를 선보였다. ‘피닉스(Phoenix)’로 명명된 이 장비는 플라즈마를 활용해 박막을 원자층 단위로 증착하는 원자층증착(ALD:Atomic Layer Deposition) 장비 일종이다. 굉장히 얇은 박막을 균일하게 만들 수 있다. 플라즈마를 사용해 저온 환경에서 공정 작업을 할 수 있다. 차세대 패터닝, 3D 낸드플래시 메모리 생산라인 적용을 노린다. 고품질 박막 생성 기술은 물론이고 이중화된 8개 챔버를 채택해 생산성을 높인 것이 특징이다.
유진테크는 사이클릭 방식 신규 CVD 장비로 올해 사상 최대 매출 달성을 목표로 세웠다. 국내 고객사에 그치지 않고 미국, 중국, 대만 반도체 생산 업체를 고객사로 확보하기 위해 영업력을 확대할 계획이다. 물량 확대에 대비해 2014년 경기도 이천시 호법면에 1만2000평 규모 본사, 제조센터를 신축했다. 메모리 분야 외 시장 확대가 예상되는 시스템LSI 분야 특화 장비도 개발 중이다.
유진테크 관계자는 “국내외 대형 반도체 소자 업체와 기술 교류, 공동 개발로 첨단 반도체 공정 장비 기술을 개발하고 있다”며 “정부 과제를 포함한 여러 종류의 반도체 핵심 개발 과제를 성공적으로 완료해 향후 결실을 거두게 될 것으로 기대한다”고 말했다.
한주엽 반도체 전문기자 powerusr@etnews.com