해성디에스가 면 저항값을 대폭 낮춰 성능을 개선한 그래핀 연구성과물을 공개했다.
해성디에스는 지난 28일부터 미국 애리조나주 피닉스에서 개최된 소재분야 최고 국제학회 MRS(Material Research Society)에 참가, 이 사실을 알렸다.
지난해 급속 열처리 방식 화학증착법(RTCVD)으로 세계 최초 34인치 대면적 그래핀 양산에 성공했다. 회사는 올해 적층방법을 활용해 성능을 크게 개선했다.
면 저항값을 기존 220옴(Ω) 수준에서 60Ω까지 낮췄다. 단일막 그래핀 면 저항값도 200Ω 이하로 내려 결정질 그래핀 자체 특성도 개선했다. 플렉시블 소재 등 다양한 응용제품에 적용 가능한 수준까지 올라왔다는 게 회사 설명이다.
그래핀 옥사이드(GO/rGO) 제품 개발과 성능 개선에도 성공했다. 그래핀 옥사이드 기술은 그래핀을 분말 또는 액체에 분산시켜 잉크 또는 첨가제 형태로 응용될 수 있는 소재다. 전기 전도도 특성이 기존 제품(20~40지멘스, S/㎝) 대비 10배 이상 향상된 샘플을 확보했다. 이를 활용하면 전자파간섭(EMI) 차폐, 기능성 보호막, 바이오, 센서 등 다양한 제품에 적용이 가능하다.
조돈엽 해성디에스 대표는 “다년간 반도체 기판 미세가공 기술에서 확보한 노하우와 그래핀 기술 개발 경험을 결합해 신규 시장 확보를 위해 다양한 산업군과 협력 중”이라며 “소재-제품-장비 등 토털 솔루션을 제공하는 부품소재 전문기업으로 성장하겠다”고 말했다.
해성디에스는 작년 5월 삼성테크윈 반도체부품사업부문이 분리 독립해 해성그룹에 편입된 회사다.
한주엽 반도체 전문기자 powerusr@etnews.com