삼성전자가 올해 역대 최대 규모의 시설 투자를 단행한다. 선제 투자로 반도체 디스플레이 부품 사업에서 1위 지위를 더욱 공고히 하기 위한 전략으로 풀이된다.
31일 삼성전자는 올해 전체 시설투자액 규모가 지난해 대비 81% 증가한 46조2000억원에 이를 것이라고 발표했다. 사업별로는 반도체에 29조5000억원, 디스플레이에 14조1000억원을 투입한다. 3분기까지 누계로 총 32조9000억원을 시설 투자에 썼다. 4분기에만 13조3000억원이 시설 투자에 쓰일 예정이다.
삼성전자는 그동안 연간으로 20조원 중반대의 시설 투자를 단행해 왔다. 그러나 올해는 메모리, 시스템반도체, 유기발광다이오드(OLED) 디스플레이 패널 수요가 급증해 예년보다 시설 투자액이 큰 폭으로 늘었다고 설명했다.
낸드플래시는 평택 1라인 신규 가동에 많은 자금을 투입했다. D램 공정 전환과 보완 투자에도 진행했다. 10나노 이하 파운드리 생산 확보를 위해 시스템반도체 생산 라인도 증설했다. 디스플레이는 미국 최대 고객사가 스마트폰 디스플레이로 OLED를 채택한 덕에 지난해에 이어 올해에도 많은 투자를 단행했다. 삼성디스플레이는 올해 OLED를 만드는 A3 공장의 증설과 함께 대형 액정표시장치(LCD) 패널을 만들던 7-2 라인을 OLED 생산용으로 전환했다.
시장의 관심은 삼성전자가 내년에도 이 같은 대규모 투자를 지속하느냐에 쏠려 있다. 업계에선 올해와 비슷하거나 소폭 줄어들 수 있다는 전망에 무게가 실렸다. 올해 평택 신규 반도체 라인 가동과 삼성디스플레이 7-1 라인 전환 등 큰 공사를 대부분 끝냈기 때문이다. 그러나 중국 시안 반도체 공장 신축, 7나노 파운드리 생산을 위한 화성 신공장 건설과 각종 보완 투자를 포함해 삼성디스플레이의 2단지(A5 공장 신축) 건립 등이 남아 있어 대규모 투자는 지속될 수 있다는 예측도 나온다.
주목할 점은 삼성전자 외 SK하이닉스와 LG디스플레이의 올해 시설투자액도 지난해 대비 대폭 확대됐다는 점이다. SK하이닉스는 올해 전년 대비 52% 확대된 9조6000억원, LG디스플레이는 89% 확대된 7조원을 각각 시설 투자에 투입하기로 했다. 삼성전자와 달리 SK하이닉스나 LG디스플레이의 내년 투자액은 소폭 확대될 수 있다는 전망이 주류를 이루고 있다.
장비 업계 관계자는 “국내 주요 반도체 디스플레이 업체가 전년 대비 시설 투자 공세를 강화한 덕에 올해 대부분의 장비 협력사가 사상 최대 실적 기록을 경신할 것으로 예상하고 있다”면서 “보수 형태의 경영 계획을 세우고 있지만 이 같은 추세는 내년에도 지속될 것”이라고 전망했다.
표. 주요 반도체 디스플레이 기업별 시설투자액 추이(자료 각사)
삼성전자
2013년23조7600억원
2014년23조4400억원
2015년25조5200억원
2016년25조4900억원
2017년46조2000억원
SK하이닉스
2013년3조5600억원
2014년5조2000억원
2015년6조6500억원
2016년6조2900억원
2017년9조6000억원
LG디스플레이
2013년3조5000억원
2014년3조원
2015년2조4000억원
2016년3조7000억원
2017년7조원 이상
한주엽 반도체 전문기자 powerusr@etnews.com