포항가속기연구소는 에스앤에스텍과 손잡고 극자외선(EUV) 반도체 소재부품 국산화를 위해 협력하기로 했다.
포항가속기연구소는 이와 관련해 30일 에스앤에스텍과 EUV 노광기술 분야 펠리클, 블랭크 마스크 소재 국산화 개발을 위한 업무협약을 맺는다.
세계적으로 반도체 소자기술 경쟁이 치열해지면서 EUV를 이용한 차세대 반도체 초미세화에 관심이 높아지고 있다.
이번 협약으로 포항가속기연구소는 에스앤에스텍이 개발 중인 반도체 소재부품의 정밀 분석 인프라 기술을 지원한다. 세계 최고 수준 EUV 반도체 소재 국산화를 위한 상호 협력하기로 했다. 포항가속기연구소가 정밀 분석을 지원할 블랭크마스크는 반도체 부품의 가장 기초적인 원재료다. 기판과 금속막 및 레지스트막 등 특성이 중요한 요소이며 구현하고자 하는 패턴이 미세할수록 작은 결함에도 민감해 엄격한 품질이 요구된다.
펠리클(Pellicle)은 반도체 노광 공정에서 포토마스크가 먼지나 이물질로 인해 손상되는 것을 막기 위해 사용하는 오염방지 용도의 소모품이다. EUV 공정을 통한 반도체 생산 시 빛이 거울에 반사돼 웨이퍼에 닿는다. 이때 반사 구조인 EUV 장비 특성상 빛이 한번 들어왔다가 다시 반사돼 빠져나갈 때 펠리클에 의해 EUV 빛의 손실이 매우 크다. 따라서 국내외 주요기업은 90% 이상 투과율을 갖는 펠리클을 만드는 데 사활을 걸고 있다.
승병훈 에스앤에스텍 전무는 “포항가속기연구소의 전문 분석 기술을 통해 EUV 파장대에서 물질의 거동을 효과적으로 파악하고 이를 통해 회사 경쟁력을 한 단계 높이기 위해 MOU를 체결하게 됐다”며 “연구소와 파트너십을 통해 EUV 소재 평가 및 개발 속도에 가속도가 붙을 것”이고 말했다.
이상설 포항가속기연구소 박사는 “방사광가속기가 제공하는 강한 EUV 파장을 활용한 극자외선 활용연구 인프라는 관련 소재 연구 시발점”이라며 “첨단 반도체 분야 상호 협력은 방사광 인프라 연구시설이 최첨단 EUV 반도체 산업 분야 활용으로 확대되는 밑거름이 될 것”이라고 했다.
한편, 포항가속기연구소는 20여 년 이전부터 X-선 및 자외선 노광을 연구하는 빔라인(실험시설)을 운영하고 있다. 최근에는 EUV 반도체 관련 빔라인에서 다양한 연구를 진행하고 있다. 그동안 반도체 산업용 소재 특성을 분석하거나 분석 장비 개발 연구가 대부분이었지만 이번 연구협력은 반도체 소재부품의 국산화 연구에 참여한다는 점에 의미가 있다.
포항=정재훈기자 jhoon@etnews.com
