동진쎄미켐이 차세대 반도체 초미세공정 필수 소재로 꼽히는 무기물(MOR) 기반 극자외선(EUV) 포토 레지스트(PR) 개발에 뛰어들었다. MOR PR는 일본 JSR가 세계 최초를 목표로 개발하고 있다.
동진쎄미켐은 최근 상용화한 EUV PR 개발팀을 주축으로 MOR PR 개발에 착수한 것으로 파악됐다. MOR PR는 유기물(CAR) PR보다 빛 흡수율이 우수한 소재로, 초미세 반도체 공정 라인에 활용될 것으로 예상된다. PR는 반도체 회로를 구현하기 위해 웨이퍼 위에 도포하는 핵심 소재다.
무기물 PR는 일본 JSR 자회사 인프리아가 세계 최초 양산을 목표로 개발하고 있다. 인프리아는 지난 2007년에 설립된 미국 무기물 PR 전문업체다. JSR가 지난해 인프리아를 인수하면서 무기물 PR 사업화에 나섰다. 일본 JSR는 인프리아를 인수한 뒤 삼성전자, SK하이닉스, TSMC, 인텔에 메모리·시스템 반도체용 무기물 PR 공급을 준비하고 있다.
동진쎄미켐은 2019년 일본 수출 규제 후 EUV PR 개발에 박차를 가해 왔다. 기존 불화크립톤(KrF)·불화아르곤(ArF) 포토레지스트뿐만 아니라 삼성전자와 협력해 EUV PR를 반도체 생산 라인에 적용하는 데 성공했다. 동진쎄미켐은 올해 하반기 경기 화성시 발안공장에 1127억원을 투자, PR 수요에 대응하고 있다. 삼성전자가 동진쎄미켐 EUV PR를 적용한 만큼 무기물 EUV PR에서도 협력 가능성이 제기된다. SK하이닉스도 무기물 PR에 관심을 보이고 있다.
◇용어
무기물 PR= 기존 유기물 PR와 달리 금속 산화물 소재를 이용해 기존보다 선명하면서 조밀한 회로패턴을 형성할 수 있다. 분자 크기가 유기물 PR 5분의 1 수준으로, 금속 산화물 알갱이가 빛을 머금고 회로를 그려 낸다. 일본 JSR가 그동안 독점 개발해 왔다.
김지웅기자 jw0316@etnews.com
