그래핀랩은 극자외선(EUV) 펠리클 제조를 위한 설비를 입고하고 시생산 준비에 나섰다고 26일 밝혔다.
펠리클은 첨단 반도체 제조에 필요한 EUV 노광 공정에 쓰이는 제품이다. 회로가 미리 그려진 핵심 부품 '포토마스크'를 보호하는 박막이다. 한장 당 1억원이 넘는 고가의 EUV 포토마스크를 오염으로부터 보호, 사용 주기를 늘릴 수 있다.
그래핀랩은 2019년 EUV 펠리클 연구개발(R&D)에 착수했다. 지난 2022년 투과율 90%에 육박하는 성능을 확보했다고 밝혔다. EUV가 포토마스크에 온전히 닿기 위해서는 펠리클의 높은 투과율이 필요하다.
그래핀랩은 자체 개발한 EUV 펠리클의 안정적 성능을 구현, 본격적인 시생산에 돌입하기로 했다. 이를 위해 최근 다수 공정 설비를 도입, 가동에 들어갔다.
입고된 RTA 장비는 급속 열처리를 통해 EUV펠리클 코어층이 되는 멀티레이어 그래핀을 합성하는 공정에 사용된다. 또 PEALD는 보호막층 증착을 위한 장비로, EUV 펠리클의 보호막층을 균일하고 증착 할 수 있고 막질의 상태가 우수하다는 강점이 있다. EUV 투과율을 높이는데 필요하다.
회사 관계자는 “이번 설비 입고를 기점으로 EUV 펠리클 구조체 완제품을 만들기 위한 준비를 마쳤고 EUV 펠리클 완제품 시양산의 목전까지 왔다”며 “입고와 동시에 장비 설치(셋업)을 마무리하고 원활히 가동 중에 있다”고 밝혔다. 현재 샘플 제작과 특성 평가를 진행 중이다.
권용덕 그래핀랩 대표는 “시양산을 위한 촉매 물질 증착 설비인 '클러스터 스퍼터 시스템'을 추가 입고할 예정”이라며 “기존 설비 대비 생산 속도 및 생산량 증대가 가능하다”고 강조했다.
회사는 해당 설비로 EUV 박막 두께를 균일하게 제어하고 완제품 박막 두께를 아주 균일하게 컨트롤 가능하고, EUV 펠리클 완제품의 두께 균일성 개선 효과를 거둘 것으로 기대했다.
그래핀랩은 EUV 펠리클 양산 기술 관련 국내 특허 등록을 완료했다. 4건의 주요 특허의 해외 출원도 진행 중이다.
권 대표는 “공정별 필요한 설비를 적기에 입고해 양산이 원활하게 진행될 수 있을 것”이라며 “끊임없는 연구개발로 양질의 차세대 EUV 펠리클 생산, 세계적인 기술경쟁력을 가진 기업으로 거듭나겠다”고 말했다.
권동준 기자 djkwon@etnews.com
