GIST, 페로브스카이트 격자 변형 이용 유전상수 단계적 조절 성공

소비전력·정보밀도 획기적 개선 차세대 반도체 소재 개발 기여

국내 연구진이 기존 반도체 소자 소비전력과 정보밀도를 획기적으로 개선할 수 있는 기술을 개발했다. 차세대 전자소자인 멤커패시터·멤컴퓨팅 시스템 개발에 기여할 것으로 예상된다.

광주과학기술원(GIST·총장 김기선)은 이상한 신소재공학부 교수팀이 반도체 기본 소재로 활용되는 페로브스카이트 재료 격자 변형을 이용해 유전상수를 단계적으로 조절하는 데 성공했다고 1일 밝혔다.

최근 페로브스카이트 구조 일부 유전재료에서 격자변형에 따라 상유전성에서 강유전성으로 상전이 될 수 있다는 연구결과가 발표되고 있다. 스트론튬망간산화물(SMO)은 격자 변형에 따라 강유전성뿐만 아니라 강자성으로의 다중상변이가 가능한 재료다. 이러한 두 강성의 강력한 조합은 차세대 다중메모리소자로 활용 가능성이 높은 재료로 평가받고 있다. 하지만 기존 선행연구에서 격자 변형에 따른 큰 누설전류 및 구조적 결함 발생으로 직접적인 강유전성 및 유전상수의 확인이 어려웠다.

격자 인장으로 인해 조절된 강유전성 및 유전특성이 조절된 페로브스카이트 재료가 차세대 메모리소자로 활용됐을 때 모식도.
격자 인장으로 인해 조절된 강유전성 및 유전특성이 조절된 페로브스카이트 재료가 차세대 메모리소자로 활용됐을 때 모식도.

이 교수팀은 선택적 산소어닐링 방법을 고안해 SMO 박막에서 최초로 격자인장에 따른 상유전성에서 강유전성으로의 상변이와 이에 따른 유전상수의 단계적 조절이 가능함을 실험적으로 확인했다. SMO 박막보다 더 큰 격자상수를 갖는 스트론튬 탄탈륨 알루미늄(LSAT) 기판을 기반으로 펄스드 레이저 증착법을 이용해 결정질 박막을 형성시켜 SMO 격자인장을 유도했다.

연구팀은 박막 두께를 조절함으로써 격자 인장률을 최대 2%까지 단계적으로 조절했으며 SMO 박막 위 스트론튬 루테늄산염 보호층을 준비하고 고온의 산소분위기에서 어닐링 진행한 뒤 보호층을 제거하는 선택적 산소어닐링 방법을 고안했다. 이를 통해 SMO 박막의 한계점인 격자변형에 따른 큰 누설전류 및 구조적 결함을 해결해 구조적으로 안정된 박막을 구현헸다.

이상한 교수는 “차세대 전자소자로 각광받고 있지만 아직 재료개발단계에 멈춰있는 멤커패시터 개발의 단초를 제공할 수 있다는데 의미가 있다”면서 “격자 인장에 따라 단계적으로 조절 가능한 유전체 재료의 개발은 향후 차세대 반도체 소자 개발을 선도할 것으로 기대된다”고 말했다.

이 교수가 주도하고 안현지 박사(제1저자)가 수행한 이번 연구는 한국연구재단이 지원하는 미래소재디스커버리 사업의 지원을 받아 이뤄졌다. 재료분야 저명 학술지인 'NPG 아시아 머터리얼즈'에 하이라이트 논문으로 선정돼 온라인에 게재됐다.

왼쪽부터 이상한 교수, 안현지 박사.
왼쪽부터 이상한 교수, 안현지 박사.

광주=김한식기자 hskim@etnews.com