한국반도체디스플레이기술학회는 오는 23일 서울 성동구 한양대에서 '제1회 플라즈마 무선주파수(RF) 기술연구회 워크숍'을 개최한다.
반도체 공정 선도를 위한 플라즈마 기술을 주제로 기술 동향과 최신 공정 도입 방안 등을 공유한다.
기체가 초고온으로 가열해 전자와 이온으로 분리된 상태인 플라즈마는 반응성이 우수해 식각· 증착 공정 등에 활용된다. 수나노(㎚)대 미세공정과 3D 낸드플래시 식각 공정에 플라즈마 도입이 필수다.
플라즈마 중요도가 높아지는 데 비해 관련 반도체 부품·장비는 외산에 의존해온 실정이다. 국내 대학, 연구기관, 기업이 관련 기술을 공유해 국산화를 도모하기 위해 워크숍을 기획했다.
행사에서는 박종철 삼성전자 마스터, 전병건 SK하이닉스 TL, 구자명 세메스 PL, 신형주 원익IPS 상무 등이 최신 플라즈마 식각 장비 양산 요건, 칩 소형화·고적층을 위한 플라즈마 기술 등에 대해 발표한다. 정진욱 한양대 교수, 유신재 충남대 교수, 채희엽 성균관대 교수는 플라즈마 정밀 진단 기술 등을 소개한다. 산학 기술협력·인재 양성 방안에 대한 패널 토론도 진행된다.
정진욱 플라즈마 RF 기술연구회장은 “반도체 기술 초미세화, 복잡화에 따라 부각되는 플라즈마 기술에 대한 산학연 교류의 장이 되길 바란다”고 밝혔다.
송윤섭기자 sys@etnews.com
