삼성전자는 31일 2017년 전체 시설투자 규모가 약 46.2조원으로 지난해 25.5조원 대비 대폭 증가할 것으로 예상된다고 밝혔다.
사업별로는 반도체 29.5조원, 디스플레이 14.1조원 수준이다.
3분기 시설투자는 총 10.4조원이며 반도체에 7.2조원, 디스플레이에 2.7조원을 투자했다. 3분기 누계로는 32.9조원을 집행했다.
메모리는 V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자를 진행하며, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자하고 있다. 디스플레이는 플렉서블 유기발광다이오드(OLED) 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자를 진행중이다.
4분기 투자는 상당 부분을 반도체 사업에 투자할 예정이며, 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이다.
권건호 전자산업 전문기자 wingh1@etnews.com
